球形纳米氧化锆的模板法制备技术

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氧化锆是一种重要的结构和功能材料,它具有非常优异的物理及化学性质,以下是小
编搜集的一篇探究氧化锆模板法制备技术的论文范文,欢迎阅读借鉴。
1 引言
氧化锆的高温稳定性和隔热性最适合做陶瓷涂层和高温零部件,他特殊的晶体结构使
之成为重要的电子材料[2].而陶瓷材料的优越性能依赖于粉体的性能,纳米粉体的应用不
仅与氧化锆的纯度、结构有关,而且粉体的粒度、分散性、形貌对粉体的应用也具有较大
的影响。其中球形且单分散的粉体所制备陶瓷材料具有低的烧结温度、高的致密性及均匀
的微观结构而被引起广泛关注[3-4].通常制备氧化锆颗粒的方法有共沉淀法[5-7]、水热
合成法[8]、微乳法[9-11]及模板法[12].特别是模板法,因其反应条件温和、所制备的粉
体形貌可控、模板易去除等优点而被关注。丁汉民[13]采用 TritonX-100/n-C10H21OH/H2O
为模板制备不同形貌的葡萄糖锌粉体,并讨论模板的组成、体系温度、反应物温度对所制
备的粉体形貌的影响。F.G.Freitas[14]利用溶致液晶模板的六角相制备的不同陶瓷材
料,并对所制备的材料形貌进行调控,使其定向生长。Santos[15]在溶致液晶六角相中直
接成核,制备了氧化锆晶须。
从目前研究的结果看以看出,采用模板法可以制备纳米材料[16-17],模板法多采用离
子型表面活性剂或非离子型表面活性剂单一的表面活性剂组装,并采用其构建的模板合成
了纳米 SiPbsCusHgs 等材料。
而采用混合型的表面活性剂组装成模板较少,而采用 TritonX-100/SDS/H2O 为模板法
制备球形的氧化锆粉体未见报道。采用 TritonX-100/SDS/H2O 体系的层状相成功合成了球
形纳米氧化锆粉体,并在低温(600℃)烧结时形成立方相的氧化锆。首先确定 TritonX-
100/SDS/H2O 体系的层状相区,讨论反应物的加入对模板层状相区稳定性的影响,采用稳
定模板通过控制反应物浓度最终获得球形纳米氧化锆,并进行形貌和结构等表征及其机理
分析。制备的球形氧化锆粉体有望用于制备陶瓷材料等方面降低烧结温度、增加陶瓷强
度,有待做进一步研究。
2 实验
2.1 实验试剂
2.2 样品的制备及表征 2.2.1TritonX-100/SDS/H2O 体系模板的制备。配制不同浓度的
十二烷基硫酸钠(SDS)溶液,按一定配比与曲拉通混合、配制一系列不同组成的样品,搅
拌、离心,两个步骤反复进行,使样品体系充分混匀。由于表面活性剂粘度较大,混匀过
程往往需要较长时,也可以对混合物稍稍加热(恒温 55℃),在其流动性增加的基础上
其进行混匀,混匀的样品在 25℃恒温放置 24h.液晶样品观,包括流动性、均匀
性及分相度,记录察现象。样品的双折射性可通过偏光显(两个垂直正交偏光
)进行步观确的佩戴 CCD 偏光显镜测得。液晶样品,
载玻片盖玻片,在偏光显下观记录图像
2.2.2 氧化锆(ZrO2)纳米粉体的制备
模板法制备氧化锆纳米粉体步骤(1)配制不同浓度的 ZrOCl28H2O 水溶液,
以备使用;(2)在溶致液晶 状相区内取点,将一定量的ZrOCl28H2O 水溶液
组分水;(3)TritonX-100/SDS/ZrOCl28H2O TritonX-100/SDS/NH3H2O 两体系充分
混合温水;(4)在高速离心机下离心,采用乙醇及水洗 粉体,洗 数涤 涤
次,直到完全不存在 Cl-;(5)100℃下在真空干燥箱内干燥 8h;(5)5℃/min 在 弗炉内
600℃烧。
2.2.3 粉体的观与表征
体系的图像采用 ceiss(AxioScope.A1) 察。氧化 的晶型显 镜观 锆
JapaneseD/MAX2500VB 型粉末 X衍射仪(Cu 靶,Ka=0.15404nm)分析在 600℃温度下所得
粉体的物相;及粒度分采用 NanoZS90 进行;形貌用 JEM-200CX 型透射 粉
体的形貌、颗粒度大小及团聚进行观;PT1600 型 分析天平 行 重分析, 定 进 热
温反应过中样品的质量变化。FT-IR 光 由美国Nicolet 傅立叶-红外(FT-IR)谱仪
(Nexus)分析定。
3 结果与讨论
3.1SDS/TritonX-100/H2O 三元体系的相行为
1出了 25℃SDS/TritonX-100/H2O 三元体系的部分相。从1上可以看到,
在 离TritonX-100 的一侧存在一个范层状液晶区,对应 SDS 含量约13.5%~70%,
对应 H2O 含量约10%~50%,对应的右图为层状相区型的十字花纹织构。
3.2TritonX-100/SDS/H2O 层状液晶体系相结构的稳定性
3.2.1TritonX-100/SDS/NH3H2O 层状液晶体系的稳定性
由于向溶致液晶的水层区引入了溶液,溶液可能对溶致液晶结构生一定的影响。
首先对反应物加入液晶的构进行了表征。2(a)-(d)分别为相同的 TritonX-100/
SDS/H2O 三者(2.468/20.126//77.406),以质浓度 6.25%,8.3%,12.5%,25%
组分水的偏光显照片(POM)。从 POM 中可以看出溶致液晶呈现各向异性,显示
的十字花形双折射效果, 是 状液晶的特征 构,表明氨水加入量 液晶的 状 构 层 结
体并有影响,浓度小于 25%时并未受到破坏,也保证了纳米粒子被组装时能复制
模板的结构,加入的水浓度大于 25%时影响了模板的稳定性,破坏了模板的层状结
构。
3.2.2TritonX-100/SDS/ZrOCl28H2O 体系层状液晶体系的稳定性
3(a)-(d)分别为相同的 TritonX-100/SDS/H2O(2.468/20.126/77.406)三者,加
入不同浓度的氧化锆 0.5,1.0,1.5 2mol/L POM 照片,当 氧化 度小于锆浓
1.5mol/L 照片中有条纹织构和十字花织构,说明这些体系有层状液晶结构在,氧化
锆的加入围内不影响溶致液晶的微观结构,改变氯氧化锆的浓度,浓度增
2mol/L 时,液晶会呈现状并且不透明可能是氧化锆的浓度大,水渗透到
溶致液晶的层氧化锆到达饱和度析出,一定影响了溶致液晶的微观结
构。
3.3 氧化锆浓度对所制备粉体粒的影响
为了考察氯氧化锆溶液的浓度对做制备纳米氧化锆粒的影响,三者
TritonX-100/SDS/H2O(2.468/20.126/77.406)氧化锆代替组分水,水浓度为 12.5%,
氧化锆的浓度分别为 0.5,1.0,1.5 2.0mol/L 所制备的粉体的粒与浓度的关系见
4.
4可以看出,随着氯氧化锆浓度的增大,所制备的粉体粒增大,可能的因是
虽然氯氧化锆与水均溶于表面活性剂的水层中而不溶于表面活性剂层,反应制在二
水层中,溶致液晶长程上表面活性剂层、水层相间周期排制了物在长程上的生长,
浓度增大在水层中成核和晶体生长度增大,影响所制备纳米粉体的粒当氯氧化锆
浓度增大2mol/L,模板的稳定性受到破坏,二水层的力减小,粒径变大。
3.4 水浓度对所制备粉体粒的影响
为了考察氨水的浓度对所制备的氧化锆粒的影响,TritonX-100/SDS/H2O 三者
2.468/20.126/77.406,氧化锆的浓度为 1mol/L,分别浓度为 25%,12.5%,8.3%
6.25%替代组分水,所制备的粉体的粒水浓度的关系。从5可看出,粉体
的粒径随着氨水的浓度增大呈现增大趋势,在我们讨论过水的浓度在个范围内
不影响模板的稳定性,模板仍保持完整性,可能致粒径变大的因是,反应体系的 pH
大,所制备粉体的等电点,致制备的粉体团聚,粒增大。
3.5 样品的表征
采用 TritonX-100/SDS/H2O 三者(2.468/20.126/77.406)的模板,氧化锆浓度为
1.0mol/L,水浓度为 6.25%,制备样品 A,将所制 的 品备 样 A体在 80℃干燥 12h,所得
粉体做 TG/DSC 试,结果如图 66热可以看出氧化锆前体均在 113℃左右出
现尖锐有较大重,这主要是粉体中物理结构水和化学吸附挥发引起的。
313℃左右有放 峰的出 并伴随失重,是粉体中有机物燃 放 致的。从 中烧 热
重可以发现氧化锆前体在 250℃后仍然持续重,而且趋势保持到
400℃达到 30%.氧化锆前体在加热过开始晶化的温度(550℃)
体的烧温度确定在 600℃
为了考察模板的情况,对烧前的样品进行了红外图谱测定。7600℃
前的样(a)的样(b)红外图谱7(b)3441cm-1 定为 O-H 伸缩振动吸收
,而 2932.0 2850.6cm-1 -CH2-的反对和对称伸缩振动1465.8cm-1 烷基
式振动;1051.1cm-1 -CH2CH3-的特征吸收峰后消失说明表面活性剂在
除去。因烧温度确定为 600℃
8为制备的粉体在 600℃烧的 XRD 衍射图,通过 XRD 对样品进行分析,样品为立
方相的氧化锆,晶a=0.5313nm,b=0.5213nm,c=0.5147nm,=99.22,标准卡片

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氧化锆是一种重要的结构和功能材料,它具有非常优异的物理及化学性质,以下是小编搜集的一篇探究氧化锆模板法制备技术的论文范文,欢迎阅读借鉴。1引言氧化锆的高温稳定性和隔热性最适合做陶瓷涂层和高温零部件,他特殊的晶体结构使之成为重要的电子材料[2].而陶瓷材料的优越性能依赖于粉体的性能,纳米粉体的应用不仅与氧化锆的纯度、结构有关,而且粉体的粒度、分散性、形貌对粉体的应用也具有较大的影响。其中球形且单分散的粉体所制备陶瓷材料具有低的烧结温度、高的致密性及均匀的微观结构而被引起广泛关注[3-4].通常制备氧化锆颗粒的方法有共沉淀法[5-7]、水热合成法[8]、微乳法[9-11]及模板法[12].特别是模...

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